Türkiye, Çip Üretiminde 110 Nanometre Hedefiyle Adım Atıyor
Türkiye, yarı iletken üretiminde 110 nanometre hedefiyle kritik bir adım atmaya hazırlanıyor. 2027‑2029 Orta Vadeli Program kapsamında, ülke 250 nm’lik mevcut üretim seviyesini OVP döneminde 110 nm’ye düşürmeyi planlıyor. Bu hedef, TÜBİTAK BİLGEM ve Yarı İletken Teknolojileri Araştırma Laboratuvarı (YİTAL) tarafından yürütülen tasarım ve AR‑G E çalışmalarının temelini oluşturuyor. Programın bir parçası olarak, kimlik ve pasaport çipleri başta olmak üzere çeşitli endüstriyel çiplerin yerli üretimi için yeni tesisler kurulacak. Çip üretim kapasitesinin artırılmasıyla sınırlı kalmayacak çalışmalar, tasarım, AR‑G E ve ticarileştirme alanlarını da güçlendirmeyi hedefliyor.
Dışa bağımlılığı azaltmak için kamu desteğiyle oluşturulacak “Ulusal Çip Konsorsiyumu” sayesinde çip ekosistemi kademeli olarak genişletilecek. 5 milyar dolarlık destek, Sanayi ve Teknoloji Bakanlığı’nın HIT‑30 Yüksek Teknoloji Yatırım Programı kapsamında kullanılacak. HIT‑Çip çağrısı ile 65 nanometre veya daha ileri teknoloji, yıllık en az 1 milyon pul üretim kapasitesi hedefleniyor. Bu çabalar, imalat sanayisi, enerji, tarım, sağlık ve ulaştırma gibi kritik sektörlerde yerli teknoloji kullanımını artırmayı amaçlıyor.
Türkiye’nin çip politikasının kapsamı, yeni tesislerin kurulmasını aşan uzun vadeli bir ekosistem oluşturmayı hedefliyor: nitelikli insan kaynağının yetiştirilmesi, test ve standart altyapısının güçlendirilmesi, üniversitelerdeki araştırmaların desteklenmesi ve sanayi‑üniversite işbirliklerinin geliştirilmesiyle yerli yarı iletken üretimi, tasarımı ve ticarileştirmesi ulusal teknoloji stratejisinin merkezine yerleşecek.
